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Effect of aromatic precursor flow rate on morphology and properties of carbon nanostructures in plasma enhanced chemical vapor deposition
Gespeichert in:
Veröffentlicht in: | RSC advances 6 (2016), 32779-32788 |
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Personen und Körperschaften: | , , |
Titel: | Effect of aromatic precursor flow rate on morphology and properties of carbon nanostructures in plasma enhanced chemical vapor deposition/ K. Lehmann, O. Yurchenko, G. Urban |
Format: | E-Book Sonderdruck |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
London
RSC Publishing
2016
Freiburg Albert-Ludwigs-Universität Freiburg 2017 |
Gesamtaufnahme: |
Effect of aromatic precursor flow rate on morphology and properties of carbon nanostructures in plasma enhanced chemical vapor deposition; 6 (2016), 32779-32788
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Quelle: | Verbunddaten SWB Lizenzfreie Online-Ressourcen |
Umfang: | 1 Online-Ressource (10 Seiten, Illustrationen, Diagramme) |
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ISSN: |
2046-2069
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DOI: | 10.1039/C6RA02999J |