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Effect of aromatic precursor flow rate on morphology and properties of carbon nanostructures in plasma enhanced chemical vapor deposition

Gespeichert in:

Veröffentlicht in: RSC advances 6 (2016), 32779-32788
Personen und Körperschaften: Lehmann, Karsten (VerfasserIn), Yurchenko, Olena (VerfasserIn), Urban, Gerald A. (VerfasserIn)
Titel: Effect of aromatic precursor flow rate on morphology and properties of carbon nanostructures in plasma enhanced chemical vapor deposition/ K. Lehmann, O. Yurchenko, G. Urban
Format: E-Book Sonderdruck
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
London RSC Publishing 2016
Freiburg Albert-Ludwigs-Universität Freiburg 2017
Gesamtaufnahme: Effect of aromatic precursor flow rate on morphology and properties of carbon nanostructures in plasma enhanced chemical vapor deposition; 6 (2016), 32779-32788
Quelle: Verbunddaten SWB
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