Eintrag weiter verarbeiten
Feasible method to fabricate a nickel-nanodot mask on a silicon substrate with conventional thermal annealing
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Materiali in tehnologije |
---|---|
Personen und Körperschaften: | , , , , , |
In: | Materiali in tehnologije, 52, 2018, 2, S. 119-123 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Unbestimmt |
veröffentlicht: |
Institute of Metals and Technology
|
Schlagwörter: |