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Optimization of Lens Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment Using Quadratically Constrained and Second-Order Cone Programming
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing |
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Personen und Körperschaften: | , , , |
In: | Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing, 4, 2010, 4, S. 785-793 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Englisch |
veröffentlicht: |
Japan Society of Mechanical Engineers
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Schlagwörter: |