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Evaluation of two-dimensional distribution of dielectric degradation in stressed SiO2film by etch-rate difference
Gespeichert in:
Zeitschriftentitel: | Journal of Physics: Conference Series |
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Personen und Körperschaften: | , , , , , , |
In: | Journal of Physics: Conference Series, 106, 2008, S. 012017 |
Format: | E-Article |
Sprache: | Unbestimmt |
veröffentlicht: |
IOP Publishing
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Schlagwörter: |