Eintrag weiter verarbeiten

Multiscale Simulation of Metallic Copper and Copper Oxide Atomic Layer Deposition from Cu Beta-diketonates: Multiskalensimulation der Atomlagenabscheidung von metallischem Kupfer u...

Gespeichert in:

Personen und Körperschaften: Hu, Xiao, Schulz, Stefan E., Bartha, Johann W., Elliott, Simon D.
Titel: Multiscale Simulation of Metallic Copper and Copper Oxide Atomic Layer Deposition from Cu Beta-diketonates: Multiskalensimulation der Atomlagenabscheidung von metallischem Kupfer und Kupferoxid aus Cu Beta-Diketonate
Hochschulschriftenvermerk: Dissertation, 2016
Format: E-Book Hochschulschrift
Sprache: Englisch
veröffentlicht:
Chemnitz Universitätsverlag der Technischen Universität Chemnitz 2018
Online-Ausg.. 2018
Schlagwörter:
Quelle: Qucosa